理想真空圆形磁控溅射靶材，氧化钛 - TiO
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Ideal Vacuum Products, LLC.
本产品为圆形磁控 TiO2 溅射靶（白色），直径 3'' x 厚度 0.125"。它的纯度为 99.99%，并与 OFHC（无氧高导电性）铜背板进行金属粘合
我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您每次购买都能物有所值。我们为每位客户提供巨额折扣，批量订购的客户将享受巨额优惠。我们库存大量产品，保证客户下单后当天发货。这种短交货期深受所有希望通过更快的周转时间管理现金流的客户喜爱。我们的老客户可以保持较低的库存水平，降低仓储成本，并将过时的风险降至最低。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以更快地收到产品，从而提高满意度并满足他们的紧急需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。
二氧化钛
二氧化钛 (TiO2) 是一种白色结晶化合物，因其高折射率和稳定性而广泛使用。它主要有三种形式：金红石、锐钛矿和板钛矿。TiO2 主要用作油漆、涂料和塑料中的颜料，因为它具有出色的不透明度和亮度。
二氧化钛（白色）主要用于光学涂层，因为它具有高折射率，使其成为防反射、干涉和高反射率涂层的理想选择。它用于多层光学设计，如介电镜和滤光片，可增强特定波长范围内的反射率或透射率。它在可见光至近红外光谱中的稳定性和透明度也使其适用于需要精确光控制和高光学质量的镜头、分束器和保护涂层。
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二氧化钛
二氧化钛 (TiO2) 是一种白色结晶化合物，因其高折射率和稳定性而广泛使用。它主要有三种形式：金红石、锐钛矿和板钛矿。TiO2 主要用作油漆、涂料和塑料中的颜料，因为它具有出色的不透明度和亮度。
二氧化钛（白色）主要用于光学涂层，因为它具有高折射率，使其成为防反射、干涉和高反射率涂层的理想选择。它用于多层光学设计，如介电镜和滤光片，可增强特定波长范围内的反射率或透射率。它在可见光至近红外光谱中的稳定性和透明度也使其适用于需要精确光控制和高光学质量的镜头、分束器和保护涂层。
RF 与 DC 溅射：
RF 溅射通常是溅射纯金属氧化物的首选方法，因为它们是绝缘体，而 RF 具有交变电场，可防止目标表面电荷积聚。这种交变场减少了在 DC 溅射中会引起电弧的电荷积累。
沉积速率：
较低的沉积速率：在 RF 溅射中，与 DC 相比，功率传输到等离子体的效率较低，这主要是由于电场的交变性质。与同等功率条件下的直流溅射相比，这会导致较低的沉积速率。
靶材：
对于导电靶材（如反应溅射中的钛），直流溅射具有较高的沉积速率。对于纯金属氧化物等绝缘靶材，必须使用射频溅射，沉积速率通常较低。
功率水平：
增加功率可以提高射频和直流溅射的沉积速率，但对于导电材料，直流溅射的沉积速率仍然往往较高。
压力和气体流量：
通过优化气体压力和流量，可以实现更高的沉积速率，RF 和 DC 的最佳条件不同。
注意：
建议对所有介电靶材使用金属或弹性体背板粘合，因为这些材料具有不易溅射的特性，例如易碎和导热性低。这些靶材由于导热性低，最容易受到热冲击，因此在启动和关闭步骤中可能需要特定的功率上升和下降程序。
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