理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、酸化チタン - TiO
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Ideal Vacuum Products, LLC.
この製品は、直径 3 インチ x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン TiO2 スパッタリング ターゲット (ホワイト) です。純度は 99.99% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。
当社は、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けするために、非常に競争力のある価格戦略を採用しています。これにより、すべての購入において、手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社はすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社は大量の製品を在庫しており、注文後、お客様には当日出荷を保証します。この短いリード タイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様は製品をより早く受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要に迅速に適応し、競争で優位に立つことができます。
二酸化チタン
二酸化チタン (TiO2) は、高い屈折率と安定性のため広く使用されている白色の結晶性化合物です。ルチル、アナターゼ、ブルッカイトの 3 つの主要な形態があります。TiO2 は、その優れた不透明性と明るさのため、主に塗料、コーティング、プラスチックの顔料として使用されます。
二酸化チタン (白色) は、主にその高い屈折率のため光学コーティングに使用され、反射防止、干渉、高反射率コーティングに最適です。誘電体ミラーやフィルターなどの多層光学設計に使用され、特定の波長範囲での反射率や透過率を高めます。可視から近赤外スペクトルにおける安定性と透明性により、精密な光制御と高い光学品質が求められるレンズ、ビームスプリッター、保護コーティングにも適しています。
二酸化チタン
二酸化チタン (TiO2) は、高い屈折率と安定性のため広く使用されている白色の結晶性化合物です。ルチル、アナターゼ、ブルッカイトの 3 つの主要な形態があります。TiO2 は、その優れた不透明性と明るさのため、主に塗料、コーティング、プラスチックの顔料として使用されます。
二酸化チタン (白色) は、主にその高い屈折率のため光学コーティングに使用され、反射防止、干渉、高反射率コーティングに最適です。誘電体ミラーやフィルターなどの多層光学設計に使用され、特定の波長範囲での反射率や透過率を高めます。可視から近赤外スペクトルにおける安定性と透明性により、精密な光制御と高い光学品質が求められるレンズ、ビームスプリッター、保護コーティングにも適しています。
RF と DC スパッタリング:
RF スパッタリングは、純粋な金属酸化物をスパッタリングするための好ましい方法です。これは、金属酸化物が絶縁体であり、RF にはターゲット表面での電荷の蓄積を防ぐ交流電界があるためです。この交流電界により、DC スパッタリングでアーク放電を引き起こす電荷の蓄積が軽減されます。
堆積速度:
堆積速度が低い: RF スパッタリングでは、主に電界の交流特性により、プラズマへの電力伝達は DC に比べて効率が低くなります。この結果、同等の電力条件下では、DC スパッタリングに比べて堆積速度が低くなります。
ターゲット材料:
導電性ターゲット (反応性スパッタリングのチタンなど) の場合、DC スパッタリングの方が堆積速度が高くなります。純粋な金属酸化物のような絶縁ターゲットの場合、RF スパッタリングを使用する必要があり、堆積速度は通常低くなります。
電力レベル:
電力を上げると、RF スパッタリングと DC スパッタリングの両方で堆積速度を上げることができますが、導電性材料の場合は、DC スパッタリングの方が堆積速度が速くなる傾向があります。
圧力とガス流量:
ガス圧力とガス流量を最適化することで、堆積速度を上げることができます。RF と DC では最適な条件が異なります。
注:
すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を受けやすく、そのため、起動およびシャットダウン手順中に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。
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