XEI Scientific Evactron E50 E-TC 去污染遠程等離子體源，常用於 SEM、TEM、ALD 和 PVD 樣品和基材製備
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XEI Scientific Evactron E50 E-TC 去污染遠程等離子體源，常用於 SEM、TEM、ALD 和掃描電子顯微鏡。 PVD 樣品和基材製備。
XEI Scientific Evactron E50 E-TC 去污系統包括：Evactron E50 E-TC 遠端等離子體自由基源，含氣體吹掃選項、Evactron E50 E-TC 機架安裝控制器、Evactron E50 E-TC 觸控板介面、系統使用手冊和Evactron E50 電纜套件。這些是我們理想真空 PlasmaVAC P50W 等離子清潔和淨化系統的整合組件，是掃描 (SEM) 和透射 (TEM) 電子顯微鏡樣品製備的理想產品。等離子清洗是至關重要的一步，因為它可以去除樣品表面的有機污染物，從而提高影像品質和分析精度。
等離子清洗對於去除樣品和基材中的碳氫化合物污染物至關重要：
Evactron E50 E-TC表面處理規格：
等離子清洗是一種廣泛用於顯微鏡（包括掃描電子顯微鏡 (SEM) 和透射電子顯微鏡 (TEM)）的技術，用於製備和淨化樣品。它有效去除樣品表面的有機污染物，並提高影像品質和分析精度。以下是 SEM 和 SEM 等離子清洗的工作原理。 TEM 樣品：
1.等離子清洗原理
等離子清洗使用等離子體（一種高度電離的氣體）來去除污染物。等離子體是透過對低壓氣體（通常是氧氣、氬氣或氫氣）施加高頻電磁場而產生的。此過程產生高反應性的離子、電子和中性物質。
2.去除污染物
等離子清洗對於去除樣品和基材中的碳氫化合物污染物至關重要：
- 掃描電子顯微鏡 (SEM)
- 透射電子顯微鏡 (TEM)
- X 射線光電子能譜 (XPS)
- X 射線光譜 (EDX)
- 冷凍等離子體聚焦離子束 (Cryo-PFIB)
- 原子層沉積 (ALD)
- 物理氣相沉積 (PVD)
- 極紫外光微影 (EUVL)
Evactron E50 E-TC表面處理規格：
- XEI Scientific 的遠程等離子體源
- 型號 Evactron E50 E-TC
- 功率可在 35 至 75 瓦之間調整
- 連續運轉最大功率為 50 瓦
- 射頻頻率為 13.56 MHz
- 兩個氣體入口過濾器選項：3 nm 和 3 nm 0.5 µm 孔徑
- 3 nm 孔徑符合半導體產業 SEMI F38-0699 指令
- 使用 O2、CDA、Ar/H2、Ar/O2、N2/H2 和 N2 氣體進行測試。
- 專用 Evactron 使用者介面控制器
- 儲存使用者設定
- 清潔方法、功率、週期和時長
等離子清洗是一種廣泛用於顯微鏡（包括掃描電子顯微鏡 (SEM) 和透射電子顯微鏡 (TEM)）的技術，用於製備和淨化樣品。它有效去除樣品表面的有機污染物，並提高影像品質和分析精度。以下是 SEM 和 SEM 等離子清洗的工作原理。 TEM 樣品：
1.等離子清洗原理
等離子清洗使用等離子體（一種高度電離的氣體）來去除污染物。等離子體是透過對低壓氣體（通常是氧氣、氬氣或氫氣）施加高頻電磁場而產生的。此過程產生高反應性的離子、電子和中性物質。
2.去除污染物
- 在等離子清洗過程中：
- 物理去除：等離子體中的高能量離子轟擊樣品表面，以物理方式濺射掉污染物。
- 化學反應：等離子體中的活性物質可以與污染物產生化學反應。例如，氧自由基可以氧化有機材料，將其轉化為易於去除的揮發性化合物。
3.在SEM和TEM的應用
- 對於 SEM 樣品：
- 淨化：等離子清潔可去除有機殘留物，例如指紋、油污和空氣中的顆粒物，這些殘留物可能會掩蓋細節或乾擾電子束。
- 改進成像：透過清潔表面，等離子處理可減少充電效應並提高 SEM 和 TEM 影像的解析度和對比度。
- 增強解析度和對比度：乾淨的樣品表面可以實現電子與樣品之間更好的相互作用，這對於在SEM 和TEM 中實現高解析度和高對比度影像至關重要。
- 塗層準備：通常在將導電塗層塗覆到非導電樣品之前使用，以確保塗層黏附良好且均勻。
4.使用等離子清洗的優點
- 對樣品溫和：與化學清洗方法不同，等離子清洗通常不會破壞樣品表面。
- 快速且有效率：該過程可能需要幾分鐘到一個小時，具體取決於污染程度和樣本大小。
- 多功能：對多種材料有效，包括金屬、陶瓷和生物樣品。
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