Pompe turbo Pfeiffer HiPace 1200 DN200 ISO-F 200 avec unité d'entraînement TC 1200 OmniControl 001 et refroidissement par eau

Ce pack de pompe turbo Pfeiffer HiPace 1200 avec bride d'admission DN200 ISO-F 200 a une vitesse de pompage de 1300 litres par seconde (l/s), une pression limite de 7,5 x 10^-8 Torr et dispose d'une unité de refroidissement par eau préinstallée. La pompe est équipée d'une unité d'entraînement électronique TC 1200 intégrée montée en bas. Ce pack comprend une unité de contrôle d'affichage OmniControl 001 avec grand écran LED qui est alimentée par la pompe via un câble de communication RS485, également inclus. Pour protéger la pompe des débris, un pare-éclats avec écran à mailles fines (0,8 mm) fait également partie de ce pack. Ce pack de pompe turbo n'inclut pas de pompe de dégrossissage, de conduites de dégrossissage, de chambre à vide, de manomètres de mesure de pression ou de vannes. Certaines mises à niveau peuvent inclure : un boîtier de relais de pompe de secours, une ventilation par solénoïde ou des vannes de purge de gaz d'étanchéité. Tous ces éléments sont disponibles et vendus séparément par Ideal Vacuum.

À propos de la pompe turbo HiPace 1200 avec bride ISO-F 200
Les pompes turbomoléculaires à vide poussé Pfeiffer HiPace 1200 avec bride d'entrée ISO-F 200 et bride de sortie KF-40 ont une vitesse de pompage de 1300 litres par seconde (l/s) et une pression limite de 7,5 x 10^-8 Torr. La pompe peut être montée de la verticale (bride à vide poussé sur le dessus) à 90° (horizontale). Une puissance d'entrée de 100 - 120/200 - 240 VAC 50/60 à un maximum de 1350 watts est fournie directement à la pompe avec le câble d'alimentation d'entrée NEMA 5-15P vers Hastings HAN 3 fourni. Cette pompe Pfeiffer HiPace 1200 est livrée avec une unité d'entraînement TC 1200 intégrée montée sur le côté de la pompe. Le TC 1200 dispose d'un port de communication et d'alimentation RS485 (M12), d'un connecteur D-sub pour le fonctionnement à distance et de deux ports accessoires M12 pour des équipements supplémentaires. Cette pompe turbo HiPace 1200 avec entrée ISO-F 200 et unité d'entraînement TC 1200 est livrée en standard avec un refroidissement par eau et porte le numéro de pièce Pfeiffer PM P06 001.

À propos de l'unité de commande d'entraînement OmniControl 001
Le contrôleur de pompe turbo Pfeiffer OmniControl 001 peut être monté sur table ou en rack et est conçu pour faire fonctionner les pompes turbo Pfeiffer HiPace 1200 équipées de l'unité d'entraînement TC 1200 intégrée. L'unité d'entraînement OmniControl 001 est alimentée par la pompe et ne dispose pas d'alimentation intégrée. L'OmniControl 001 peut contrôler tous les paramètres principaux de la pompe turbo HiPace 1200 via un câble d'interface RS485 de 3 mètres de long fourni. Comme il ne dispose pas de sa propre alimentation électrique, l'OmniControl 001 est très compact et porte la référence Pfeiffer PE D40 100 0.

À propos de l'unité de refroidissement par eau
Le refroidissement par eau est standard sur les pompes turbo HiPace 1200. L'unité de refroidissement par eau est dotée de connecteurs à emboîtement pour les tuyaux d'alimentation et de refoulement (tuyau en plastique de 10 mm de diamètre extérieur). Les raccords de tuyaux peuvent être dévissés et retirés pour utiliser les filetages G 1/4" intégrés.

Les applications de ce package incluent :

• Spectrométrie de masse
• Chromatographie en phase gazeuse, spectrométrie de masse (GC/MS)
• Chromatographie en phase liquide, spectrométrie de masse (LC/MS)
• Spectrométrie de masse à plasma à couplage inductif (ICP-MS)
• Spectrométrie de masse à temps de vol (TOF)

Le vide dans la recherche et le développement :

• Physique des hautes énergies
• Technologie de fusion
• Recherche générale sur les ultra-hautes pressions
• Sources de lumière synchrotron Accélérateurs de particules

Instruments de nanotechnologie :

• Électron Microscopie
• Microscopie électronique à balayage (MEB)
• Microscopie électronique à transmission (MET)
• Systèmes à faisceaux d'ions focalisés (FIB)
• Analyse de surface
• Fabrication de semi-conducteurs

Traitement sous vide industriel :

• Dépôt de couches minces :
• Équipement de revêtement de verre (verre architectural et automobile, écrans plats)
• Production de cellules solaires à couches minces (photovoltaïque)
• Supports de données optiques (CD, DVD, disques magnéto-optiques)
• Supports de stockage magnétiques
• Traitements de surface
• Revêtement optique (ophtalmique, optoélectronique de précision)
• Revêtement en rouleau/en bande sur films ou feuilles

Traitement des appareils :

• Fabrication de tubes cathodiques pour téléviseurs et moniteurs
• Évacuation des lampes (éclairage d'autoroute, projecteurs)
• Tubes à rayons X et appareils électroniques

Procédés généraux :

• Fours à vide
• Métallurgie

Ce package est stocké dans notre inventaire sous forme de kit, composé de nombreuses pièces séparées, et chacune est répertoriée dans notre section Disponibilité des composants du kit ci-dessous. Les manuels d'instructions d'utilisation sont disponibles dans les téléchargements.