理想真空铪丸 - Hf，100 克，纯度 99.95%，铪熔点 2227°C，1 - 6 毫米丸，PVD 蒸发材料，铪薄膜
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Ideal Vacuum Products, LLC.
我们为您的工艺提供高品质的 PVD 蒸发材料。
本产品为一瓶 100 克高纯度铪颗粒 (99.95%)，尺寸为 1 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些碎片的密度为 13.31 g/cc，熔点为 2,227 °C，蒸汽压为 10-4 Torr（3,090 °C）。其热膨胀系数为 5.9 x 10-6/K，Z 比为 0.36。
我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您的每次购买都物有所值。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们备有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户的喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到他们的产品，提高满意度，同时满足他们的紧急库存需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。
价格匹配保证
我们致力于为您提供最物有所值的购买体验。如果您发现竞争对手的相同产品价格更低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。
铪
铪具有独特的性能，例如高熔点、出色的耐腐蚀性和形成稳定氧化物的能力，是薄膜应用中的宝贵材料。
本产品为一瓶 100 克高纯度铪颗粒 (99.95%)，尺寸为 1 x 6 毫米，装在 PET 塑料瓶中运输。这些碎片的密度为 13.31 g/cc，熔点为 2,227 °C，蒸汽压为 10-4 Torr（3,090 °C）。其热膨胀系数为 5.9 x 10-6/K，Z 比为 0.36。
我们使用极具竞争力的定价策略，确保您以最优惠的价格获得最高质量的产品，让您的每次购买都物有所值。我们为每位客户提供折扣，批量订购的客户将享受更大的折扣。我们备有大量 PVD 蒸发材料库存，因此大多数订单都会在下单当天发货。这种较短的交货期深受所有希望管理现金流、维持较低库存水平和降低仓储成本的客户的喜爱。从 Ideal Vacuum 购买意味着客户可以快速收到他们的产品，提高满意度，同时满足他们的紧急库存需求。这也使我们的客户能够快速适应新趋势和需求，从而在竞争中保持领先地位。
价格匹配保证
我们致力于为您提供最物有所值的购买体验。如果您发现竞争对手的相同产品价格更低，我们会积极进行价格匹配。只需向我们提供相关详细信息，我们将确保您获得更好的交易。
铪
铪具有独特的性能，例如高熔点、出色的耐腐蚀性和形成稳定氧化物的能力，是薄膜应用中的宝贵材料。
铪的薄膜应用
- 电子和微电子： 栅极电介质：氧化铪 (HfO2) 广泛用于现代半导体器件，作为晶体管中的高 k（高介电常数）栅极电介质材料。它取代了先进 CMOS 技术节点中的二氧化硅 (SiO2)，以减少栅极泄漏并进一步实现电子元件的小型化。
- 耐磨涂层： 机械应用：铪薄膜用作在极端条件下工作的机械部件的耐磨涂层。这些薄膜通过提供坚硬耐用的表面，有助于延长这些部件的使用寿命。
- 核应用： 控制棒涂层：铪的中子吸收能力使其成为核反应堆的首选材料，可用于制造控制棒。铪或其合金的薄膜可用于控制棒，以提高其性能和使用寿命。
- 光学应用： 高折射率层：氧化铪薄膜可用于光学涂层，特别是防反射涂层、镜子和透镜。其高折射率和在可见光和近红外区域的透明度使其成为这些应用的理想选择。
电容器：HfO2 也用于电容器，其高介电常数允许在较小的体积内实现更大的电容，从而提高各种电子设备的性能。
激光涂层：HfO2 用于激光光学涂层，因为它能够承受高激光功率而不会退化，确保高功率激光系统的耐用性和性能。
铪独特的高介电常数、耐腐蚀性、高折射率和极端条件下的稳定性使其成为薄膜应用中用途广泛的材料。它广泛用于电子、光学、防护涂层、核技术和催化，为这些领域的进步做出了重大贡献。
Ideal Vacuum Products 以极具竞争力的价格和短交货期提供各种尺寸的蒸发材料。我们还接受定制颗粒尺寸订单以满足您的特定要求。如有任何疑问，请联系我们的销售团队。
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