Pastilles de CUIVRE sous vide idéales - Cu, 100 grammes, pureté 99,999 % - 5 N, point de fusion du cuivre 1 085 °C, pastilles 6 x 6 mm, matériaux d'évaporation PVD, films minces en cuivre métallique
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Ideal Vacuum Products, LLC.
Si vous recherchez des matériaux d'évaporation PVD de haute qualité pour votre procédé, vous êtes au bon endroit. Ce produit est une bouteille de 100 grammes de granulés de cuivre (Cu) de haute pureté (99,999 %) de 6 x 6 mm et expédiés dans des bouteilles en plastique PET ou en verre. Ces pastilles ont une densité de 8,92 g/cc, un point de fusion de 1083°C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 017°C. Son coefficient de dilatation thermique est de 16,5 x 10-6/K et, dans le contexte du dépôt de couches minces, il a un rapport Z de 0,437.
Nous utilisons une stratégie de prix très compétitive pour garantir que vous recevez des produits de la plus haute qualité au meilleur rapport qualité-prix possible, vous offrant à la fois abordabilité et excellence à chaque achat. Nous offrons des remises à chaque client, les clients qui passent des commandes en gros bénéficieront de remises plus importantes. Nous disposons d'un large inventaire de matériaux d'évaporation PVD afin que la plupart des commandes soient expédiées le jour même de la passation de la commande. Ce court délai de livraison est apprécié par tous nos clients qui cherchent à gérer leur trésorerie, à maintenir des niveaux de stock inférieurs et à réduire les coûts de stockage. Acheter chez Ideal Vacuum signifie qu'un client reçoit son produit rapidement, ce qui améliore sa satisfaction, tout en répondant à ses besoins urgents en matière de stock. Cela permet également à nos clients de garder une longueur d'avance sur leurs concurrents en s'adaptant rapidement aux nouvelles tendances et demandes.
Garantie de prix égal
Nous nous engageons à vous offrir le meilleur rapport qualité-prix pour votre achat. Si vous trouvez un prix inférieur sur un article identique chez un concurrent, nous alignons activement le prix. Il vous suffit de nous fournir les détails pertinents et nous veillerons à ce que vous obteniez une meilleure offre.
Cuivre
Le cuivre est un élément chimique dont le symbole est Cu et le numéro atomique est 29. C'est un métal rouge-or qui est très conducteur d'électricité et de chaleur. Il a une densité de 8,92 g/cc, un point de fusion de 1083°C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 017°C. Son coefficient de dilatation thermique est de 16,5 x 10-6/K et, dans le contexte du dépôt de couches minces, il a un rapport Z de 0,437.
Le cuivre est largement utilisé dans l'industrie des couches minces en raison de son excellente conductivité électrique, de ses propriétés thermiques et de ses caractéristiques d'adhérence. Il peut être fondu et évaporé à l'aide de l'évaporation par faisceau d'électrons ou du chauffage résistif dans des creusets, des nacelles d'évaporation et des paniers métalliques. Vous trouverez ci-dessous quelques exemples d'utilisation de couches minces de cuivre.
Nous utilisons une stratégie de prix très compétitive pour garantir que vous recevez des produits de la plus haute qualité au meilleur rapport qualité-prix possible, vous offrant à la fois abordabilité et excellence à chaque achat. Nous offrons des remises à chaque client, les clients qui passent des commandes en gros bénéficieront de remises plus importantes. Nous disposons d'un large inventaire de matériaux d'évaporation PVD afin que la plupart des commandes soient expédiées le jour même de la passation de la commande. Ce court délai de livraison est apprécié par tous nos clients qui cherchent à gérer leur trésorerie, à maintenir des niveaux de stock inférieurs et à réduire les coûts de stockage. Acheter chez Ideal Vacuum signifie qu'un client reçoit son produit rapidement, ce qui améliore sa satisfaction, tout en répondant à ses besoins urgents en matière de stock. Cela permet également à nos clients de garder une longueur d'avance sur leurs concurrents en s'adaptant rapidement aux nouvelles tendances et demandes.
Garantie de prix égal
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Cuivre
Le cuivre est un élément chimique dont le symbole est Cu et le numéro atomique est 29. C'est un métal rouge-or qui est très conducteur d'électricité et de chaleur. Il a une densité de 8,92 g/cc, un point de fusion de 1083°C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 017°C. Son coefficient de dilatation thermique est de 16,5 x 10-6/K et, dans le contexte du dépôt de couches minces, il a un rapport Z de 0,437.
Le cuivre est largement utilisé dans l'industrie des couches minces en raison de son excellente conductivité électrique, de ses propriétés thermiques et de ses caractéristiques d'adhérence. Il peut être fondu et évaporé à l'aide de l'évaporation par faisceau d'électrons ou du chauffage résistif dans des creusets, des nacelles d'évaporation et des paniers métalliques. Vous trouverez ci-dessous quelques exemples d'utilisation de couches minces de cuivre.
Applications des couches minces de cuivre
- Interconnexions en microélectronique : Les couches minces de cuivre sont utilisées dans les circuits intégrés et les dispositifs semi-conducteurs pour créer des voies électriques efficaces entre les composants en raison de leur faible résistance électrique.
- Revêtements et placage : Les couches minces de cuivre servent de couches conductrices dans divers appareils électroniques, fournissant une surface conductrice fiable et efficace pour un dépôt ou un placage ultérieur.
- Revêtements réfléchissants : la réflectivité élevée du cuivre le rend adapté à une utilisation dans les revêtements optiques et les miroirs, améliorant l'efficacité des dispositifs qui reposent sur la réflexion de la lumière.
- Couches barrières : dans les structures multicouches à couches minces, le cuivre peut agir comme une barrière de diffusion pour empêcher le mélange de différents matériaux, préservant ainsi l'intégrité et les performances des couches.
- Capteurs et catalyseurs : les couches minces de cuivre sont utilisées dans les capteurs de gaz et comme catalyseurs dans les réactions chimiques en raison de leurs propriétés de surface réactives.
- Plaques de support de cible : les cibles de pulvérisation dans les machines de revêtement sous vide sont traditionnellement collées sur des plaques de support en cuivre.
Dans l'ensemble, la polyvalence du cuivre et ses propriétés physiques et chimiques favorables en font un matériau précieux dans la production de couches minces pour diverses applications technologiques avancées.
Ideal Vacuum Products fournit une large gamme de tailles de granulés d'évaporation à un prix très compétitif et dans des délais courts. Veuillez consulter les autres options de taille de granulés ci-dessous et contacter notre équipe commerciale pour toute demande de renseignements. Nous prenons également des commandes de tailles de granulés personnalisées pour répondre à vos besoins spécifiques.
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