Cibles de pulvérisation magnétron circulaires à vide idéales, OXYDE DE TANTALE- Ta
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Ideal Vacuum Products, LLC.
Ce produit est une cible de pulvérisation magnétron circulaire à base d'OXYDE DE TANTALE - Ta2O5, d'un diamètre de 3'' x épaisseur de 0,125". Elle est pure à 99,995 % et est métalliquement liée à une plaque de support en cuivre OFHC (Oxygen-Free High Conductivity).
Nous utilisons une stratégie de prix très compétitive pour vous assurer de recevoir des produits de la plus haute qualité au meilleur prix possible, vous offrant à la fois accessibilité et excellence dans chaque achat. Nous offrons d'énormes remises à chaque client, les clients qui passent des commandes en gros bénéficieront d'énormes économies. Nous stockons d'énormes quantités de nos produits pour offrir à nos clients une expédition garantie le jour même après avoir passé une commande. Ce court délai de livraison est apprécié par tous nos clients qui cherchent à gérer leur trésorerie avec des délais d'exécution plus rapides. Nos clients réguliers peuvent maintenir des niveaux de stock inférieurs, ce qui réduit les coûts de stockage et minimise le risque d'obsolescence. Acheter chez Ideal Vacuum signifie qu'un client reçoit son produit plus rapidement, ce qui améliore sa satisfaction et répond à ses besoins urgents. Cela permet également à nos clients de garder une longueur d'avance sur leurs concurrents en s'adaptant rapidement aux nouvelles tendances et demandes.
OXYDE DE TANTALE - Ta2 O5>
Pentoxyde de tantale
Le pentoxyde de tantale (Ta2O5) est un composé inorganique composé de tantale et d'oxygène. Il s'agit d'une poudre cristalline blanche connue pour son indice de réfraction élevé, son excellente stabilité chimique et ses propriétés diélectriques. Le Ta2O5 est largement utilisé dans les applications optiques et électroniques en raison de sa combinaison unique de propriétés.
Le pentoxyde de tantale (Ta2O5) est largement utilisé dans les revêtements à couches minces en raison de ses propriétés optiques, électroniques et diélectriques exceptionnelles. Sa polyvalence et sa capacité à former des films stables et de haute qualité en font un matériau idéal pour une variété d'applications hautes performances :
1. Revêtements à indice de réfraction élevé : le Ta2O5 est utilisé dans les revêtements optiques multicouches pour lentilles, miroirs et filtres. Son indice de réfraction élevé permet de créer des revêtements antireflets et hautement réfléchissants précis.
2. Revêtements antireflets : utilisés en combinaison avec des matériaux à indice de réfraction plus faible pour produire des revêtements antireflets destinés à améliorer la transmission de la lumière dans les lentilles et les écrans.
3. Couches barrières : utilisées comme couche protectrice contre l'oxydation et la corrosion dans les structures multicouches.
4. Dispositifs électro-optiques et photoniques :.
La combinaison unique du pentoxyde de tantale, qui allie un indice de réfraction élevé (~2,1 à 2,2 à 550 nm), une rigidité diélectrique et une stabilité chimique, en fait un matériau indispensable dans les revêtements de couches minces pour l'optique, l'électronique et la photonique, permettant le développement de dispositifs et de systèmes à hautes performances.
Méthodes de dépôt :
Les couches minces de Ta2O5 peuvent être déposées par pulvérisation cathodique RF, pulvérisation cathodique réactive (avec du tantale et de l'oxygène gazeux) et évaporation par faisceau d'électrons. Il est également déposé par dépôt de couche atomique (ALD) pour des revêtements conformes précis en microélectronique.
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OXYDE DE TANTALE - Ta2 O5>
Pentoxyde de tantale
Le pentoxyde de tantale (Ta2O5) est un composé inorganique composé de tantale et d'oxygène. Il s'agit d'une poudre cristalline blanche connue pour son indice de réfraction élevé, son excellente stabilité chimique et ses propriétés diélectriques. Le Ta2O5 est largement utilisé dans les applications optiques et électroniques en raison de sa combinaison unique de propriétés.
Le pentoxyde de tantale (Ta2O5) est largement utilisé dans les revêtements à couches minces en raison de ses propriétés optiques, électroniques et diélectriques exceptionnelles. Sa polyvalence et sa capacité à former des films stables et de haute qualité en font un matériau idéal pour une variété d'applications hautes performances :
1. Revêtements à indice de réfraction élevé : le Ta2O5 est utilisé dans les revêtements optiques multicouches pour lentilles, miroirs et filtres. Son indice de réfraction élevé permet de créer des revêtements antireflets et hautement réfléchissants précis.
2. Revêtements antireflets : utilisés en combinaison avec des matériaux à indice de réfraction plus faible pour produire des revêtements antireflets destinés à améliorer la transmission de la lumière dans les lentilles et les écrans.
3. Couches barrières : utilisées comme couche protectrice contre l'oxydation et la corrosion dans les structures multicouches.
4. Dispositifs électro-optiques et photoniques :.
La combinaison unique du pentoxyde de tantale, qui allie un indice de réfraction élevé (~2,1 à 2,2 à 550 nm), une rigidité diélectrique et une stabilité chimique, en fait un matériau indispensable dans les revêtements de couches minces pour l'optique, l'électronique et la photonique, permettant le développement de dispositifs et de systèmes à hautes performances.
Méthodes de dépôt :
Les couches minces de Ta2O5 peuvent être déposées par pulvérisation cathodique RF, pulvérisation cathodique réactive (avec du tantale et de l'oxygène gazeux) et évaporation par faisceau d'électrons. Il est également déposé par dépôt de couche atomique (ALD) pour des revêtements conformes précis en microélectronique.
Remarques :
Il est recommandé de coller des plaques de support métalliques ou élastomères pour tous les matériaux cibles diélectriques, car ces matériaux présentent des caractéristiques qui ne se prêtent pas à la pulvérisation cathodique, telles que la fragilité et une faible conductivité thermique. Ces cibles sont plus sensibles aux chocs thermiques en raison de leur faible conductivité thermique et peuvent donc nécessiter des procédures spécifiques de montée et de descente en puissance pendant les étapes de démarrage et d'arrêt.
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