Edwards iXM 200 ドライ真空ポンプ 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph. PN A56106958

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Edwards iXM 200 ドライ真空ポンプ 200-230 VAC 50/60 hz 3 ph.
Edwards 部品番号 A56106958


Edwards iXM 200 は、環境に優しい製造のために設計された新しいドライポンプシリーズです。非常に低いエネルギーを使用する効率的なルーツ機構が開発され、入力電力が 1.3 kW に大幅に削減されました。これは、前世代のドライポンプよりも 60% 低いため、環境への影響が軽減され、所有コストも削減されます。 ガスバリア技術と熱設計の改善により、iH シリーズ製品よりも 4 倍の耐腐食性を実現しています。高度な粉末処理機能により、iXM は、多層エッチング プロセスで最大限の信頼性とポンプ寿命の延長を実現し、CVD プロセスでは消費電力を削減します。

Edwards iXM 200 シリーズ ポンプは、コンパクトで軽量な設計で、非常に低いノイズと振動を併せ持つため、Edwards 製品群の中で最も汎用性の高いドライ ポンプとなっています。iXM は、ドライ真空ポンプ技術に対するお客様の期待を一変させ、環境への影響を最小限に抑えながら、真のメリットと稼働時間の増加を実現します。iXM ポンプは、ほとんどの半導体プロセスで使用できるように設計されており、入力電力を大幅に削減します。 完全な取扱説明書については、横のダウンロードを参照してください。

機能と利点:
  • 主にクリーンから軽度の過酷な化学薬品用途向け (以下の用途範囲を参照)
  • ピーク ポンピング速度 200 m3/h-1 (118 CFM)
  • 最大圧力 1.5 X 10-2 Torr
  • プライマリ ポンプのみを含む
  • 予防保守は不要
  • 3/8 インチ クイック コネクト水充填
  • 水と電源接続嵌合ハーフ
  • SS 水冷システム
  • バリモード ガス モジュール

    用途:
    • ロード ロック
    • 転送
    • 気象学
    • リソグラフィー
    • 物理蒸着 PVD ​​プロセス
    • 物理蒸着 PVD ​​プレクリーン
    • 急速熱アニール RTA
    • ストリップ/アッシング
    • エッチング
    • インプラント ソース
    • 高密度プラズマ化学蒸着 HDP CVD
    • 急速熱処理 RTP
    • 大気圧以下の化学蒸着SACVD
    • タングステン化学蒸着法 WCVD
    • 改良化学蒸着法 MCVD
    • プラズマ強化化学蒸着法 PECVD
    • 低圧化学蒸着法 LPCVD

Edwards_iXM_Instructions.pdf (Edwards_iXM_Instructions.pdf, 9,740 Kb) [ダウンロード]

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