理想真空釔 (Y) 顆粒，純度 99.9%，熔點 1522°C，薄膜 PVD 沉積材料，顆粒尺寸 1-6 毫米，100 克。
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理想真空釔 (Y) 顆粒，純度 99.9% (3N)，熔點 1522 °C，熱蒸發材料，釔薄膜 PVD 沉積材料，顆粒尺寸 1-6 毫米，100 克。
如果您正在為您的工藝尋找高品質的 PVD 蒸發材料，那麼您來對地方了。
該產品是一瓶 100 克高純度釔片 (99.99%)，尺寸為 1 - 10 毫米，採用 PET 塑膠瓶運輸。這些碎片的密度為 4.47 克/立方厘米，熔點為 1,522 °C，1,157 °C 時的蒸氣壓為 10-4 托。 其熱膨脹係數為10.6 x 10-6/K，Z比為0.835。
我們採用極具競爭力的定價策略，確保您以盡可能高的價值獲得最優質的產品，讓您在每次購買時都能負擔得起且卓越。我們為每位客戶提供折扣，大量訂購的客戶將享受更大的折扣。我們擁有大量 PVD 蒸發材料庫存，因此大多數訂單在下訂單的當天發貨。這種較短的交貨時間受到所有希望管理現金流、保持較低庫存水準並降低儲存成本的客戶的喜愛。從 Ideal Vacuum 購買意味著客戶可以快速收到他們的產品，提高滿意度，同時滿足他們緊急的庫存需求。這也使我們的客戶能夠透過快速適應新趨勢和需求來保持競爭優勢。
價格匹配保證
我們致力於為您的購買提供最大的價值。如果您發現競爭對手的相同商品價格較低，我們會積極進行價格匹配。只需向我們提供相關詳細信息，我們將確保您獲得更好的交易。
釔
鋅是一種多功能且有效的塗層材料，用於各行業的薄膜，提供保護並提高底層材料的使用壽命。它形成防腐蝕屏障的能力及其對各種沉積方法的適用性使其成為現代材料科學和工程的關鍵組成部分。
該產品是一瓶 100 克高純度釔片 (99.99%)，尺寸為 1 - 10 毫米，採用 PET 塑膠瓶運輸。這些碎片的密度為 4.47 克/立方厘米，熔點為 1,522 °C，1,157 °C 時的蒸氣壓為 10-4 托。 其熱膨脹係數為10.6 x 10-6/K，Z比為0.835。
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鋅是一種多功能且有效的塗層材料，用於各行業的薄膜，提供保護並提高底層材料的使用壽命。它形成防腐蝕屏障的能力及其對各種沉積方法的適用性使其成為現代材料科學和工程的關鍵組成部分。
釔的薄膜應用
- 光學塗層： 氧化釔的透明性使其成為光學塗層的理想選擇。
- 電絕緣： 氧化釔的絕緣特性有利於半導體和電子應用。
- 磁性： YIG 薄膜因其在各種電子和微波應用中的磁性而受到高度重視。
- 耐化學性： 氧化釔薄膜具有優異的耐化學腐蝕和氧化性能。
釔薄膜由於其獨特的性能（包括熱穩定性、耐化學性、磁性和光學透明度）在各種先進應用中受到高度重視。它們在高溫超導體、光學塗層、磁性元件和半導體工業中發揮著至關重要的作用。
Ideal Vacuum Products 以極具競爭力的價格和較短的交貨時間提供各種尺寸的蒸發材料。我們也接受客製化顆粒尺寸訂單，以滿足您的特定要求。如有任何疑問，請聯絡我們的銷售團隊。
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