Ideal Vacuum SILICON(P형) 조각 - Si, 100그램, 99.999% 순도, 붕소 도핑, 녹는점 1,410°C, 1 - 10mm 조각, PVD 증착 재료, 실리콘 반도체 박막

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Ideal Vacuum PVD 재료, 실리콘(P형) 조각 - Si, 99.999%(5N) 순도, 1 - 10mm 조각, 100그램 병, 실리콘 녹는점 1,410°C, 열 증발 재료, 박막 증착 재료, 부품 번호: P1013575
Ideal Vacuum Products, LLC.

공정에 적합한 고품질 PVD 증발 재료를 찾고 있다면 올바른 곳에 오셨습니다.

이 제품은 1 - 10mm 크기의 고순도 실리콘(P형) 조각(99.999%) 100그램 병이며 PET 플라스틱 병에 담겨 배송됩니다. 이 제품은 밀도가 2.32g/cc, 녹는점이 1,410°C, 증기압이 1,337°C에서 10-4Torr입니다. 열팽창 계수는 2.6 x 10-6/K이고 Z 비율은 0.437입니다.

저희는 매우 경쟁력 있는 가격 책정 전략을 사용하여 최상의 가치로 최고 품질의 제품을 받을 수 있도록 보장하여 모든 구매에서 저렴함과 우수성을 제공합니다. 저희는 모든 고객에게 할인을 제공하며, 대량 주문하는 고객은 더 큰 할인 혜택을 누릴 수 있습니다. 저희는 PVD 증발 재료의 대량 재고를 보유하고 있으므로 대부분 주문은 주문한 날 당일 배송됩니다. 이 짧은 리드 타임은 현금 흐름을 관리하고, 재고 수준을 낮추고, 보관 비용을 줄이려는 모든 고객에게 사랑받고 있습니다. Ideal Vacuum에서 구매하면 고객이 제품을 신속하게 받아 만족도를 높이고 긴급한 재고 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 이를 통해 고객은 새로운 트렌드와 수요에 빠르게 적응하여 경쟁에서 앞서 나갈 수 있습니다.

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실리콘(P형)
P형 실리콘은 반도체 특성으로 인해 물리 기상 증착(PVD) 공정에 사용되는 핵심 소재입니다. 실리콘은 물리적, 화학적, 전기적, 열적 특성이 결합되어 현대 기술과 산업에서 없어서는 안 될 소재입니다.
P형 실리콘은 양전하 캐리어(홀)를 제공하는 원소로 도핑된 반도체 소재입니다. 이 유형의 실리콘은 전기를 전도하는 능력으로 인해 다양한 전자 및 태양광 응용 분야에서 필수적입니다. 박막 응용 분야에서 P형 실리콘은 특히 태양 전지와 트랜지스터에서 중요한 역할을 합니다.

도핑 원소: P형 실리콘은 일반적으로 주기율표의 3족 원소(예: 붕소, 알루미늄 또는 갈륨)로 도핑됩니다. 붕소는 가장 일반적으로 사용되는 도펀트입니다.

실리콘의 박막 응용 분야
  • 태양 전지:
  • 비정질 실리콘(a-Si) 태양 전지: P형 실리콘은 종종 비정질 실리콘 태양 전지 제조에 사용됩니다. 이러한 전지는 N형 실리콘과 접합을 형성하는 P형 실리콘의 얇은 층을 가지고 있어 빛 흡수로 생성된 전하 캐리어를 분리하는 데 도움이 됩니다.
  • 박막 트랜지스터(TFT): 비정질 실리콘 TFT: P형 실리콘은 디스플레이 및 기타 전자 장치의 필수 구성 요소인 박막 트랜지스터에 사용할 수 있습니다. 이 제품은 유연성과 저비용 제조에 이점이 있습니다.
    저온 폴리실리콘(LTPS) TFT: 이 트랜지스터는 P형 폴리실리콘을 사용하여 비정질 실리콘 TFT에 비해 더 높은 이동성과 더 빠른 스위칭 속도 측면에서 더 나은 성능을 제공합니다.

전반적으로 p형 실리콘의 다재다능함과 유리한 물리적 및 화학적 특성은 다양한 첨단 기술 응용 분야의 박막 생산에 귀중한 소재가 됩니다.

Ideal Vacuum Products는 매우 경쟁력 있는 가격과 짧은 리드타임으로 광범위한 크기의 증발 소재를 공급합니다. 또한 고객의 특정 요구 사항을 충족하기 위해 맞춤형 펠릿 크기 주문도 받습니다. 문의 사항이 있으면 영업팀에 문의하세요.

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