Pièces de SILICIUM sous vide idéales (type P) - Si, 100 grammes, 99,999 % pur, dopé au bore, point de fusion 1 410 °C, pièces de 1 à 10 mm, matériaux d'évaporation PVD, films minces semi-conducteurs en silicium
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Ideal Vacuum Products, LLC.
Si vous recherchez des matériaux d'évaporation PVD de haute qualité pour votre processus, vous êtes au bon endroit.
Ce produit est une bouteille de 100 grammes de morceaux de silicium (type P) de haute pureté (99,999 %) de 1 à 10 mm et expédiés dans des bouteilles en plastique PET. Ces pièces ont une densité de 2,32 g/cc, un point de fusion de 1 410 °C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 337 °C. Son coefficient de dilatation thermique est de 2,6 x 10-6/K et son rapport Z est de 0,437.
Nous utilisons une stratégie de prix très compétitive pour vous garantir de recevoir des produits de la plus haute qualité au meilleur rapport qualité-prix possible, vous offrant à la fois abordabilité et excellence à chaque achat. Nous offrons des remises à chaque client, les clients qui passent des commandes en gros bénéficieront de remises plus importantes. Nous disposons d'un large inventaire de matériaux d'évaporation PVD afin que la plupart des commandes soient expédiées le jour même de la passation de la commande. Ce court délai de livraison est apprécié par tous nos clients qui cherchent à gérer leur trésorerie, à maintenir des niveaux de stock inférieurs et à réduire les coûts de stockage. Acheter chez Ideal Vacuum signifie qu'un client reçoit son produit rapidement, ce qui améliore sa satisfaction, tout en répondant à ses besoins urgents en matière de stock. Cela permet également à nos clients de garder une longueur d'avance sur leurs concurrents en s'adaptant rapidement aux nouvelles tendances et demandes.
Garantie de correspondance des prix
Nous nous engageons à vous offrir le meilleur rapport qualité-prix pour votre achat. Si vous trouvez un prix inférieur sur un article identique chez un concurrent, nous nous alignons activement sur le prix. Il vous suffit de nous fournir les détails pertinents et nous veillerons à ce que vous obteniez une meilleure offre.
Silicium (type P)
Le silicium de type P est un matériau clé utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) en raison de ses propriétés semi-conductrices. La combinaison des propriétés physiques, chimiques, électriques et thermiques du silicium en fait un matériau indispensable dans la technologie et l'industrie modernes.
Le silicium de type P est un type de matériau semi-conducteur qui a été dopé avec des éléments qui lui fournissent des porteurs de charge positifs (trous). Ce type de silicium est crucial dans diverses applications électroniques et photovoltaïques en raison de sa capacité à conduire l'électricité. Dans les applications à couches minces, le silicium de type P joue un rôle essentiel, en particulier dans les cellules solaires et les transistors.
Éléments dopants : le silicium de type P est généralement dopé avec des éléments du groupe III du tableau périodique, tels que le bore, l'aluminium ou le gallium. Le bore est le dopant le plus couramment utilisé.
Ce produit est une bouteille de 100 grammes de morceaux de silicium (type P) de haute pureté (99,999 %) de 1 à 10 mm et expédiés dans des bouteilles en plastique PET. Ces pièces ont une densité de 2,32 g/cc, un point de fusion de 1 410 °C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 337 °C. Son coefficient de dilatation thermique est de 2,6 x 10-6/K et son rapport Z est de 0,437.
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Silicium (type P)
Le silicium de type P est un matériau clé utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) en raison de ses propriétés semi-conductrices. La combinaison des propriétés physiques, chimiques, électriques et thermiques du silicium en fait un matériau indispensable dans la technologie et l'industrie modernes.
Le silicium de type P est un type de matériau semi-conducteur qui a été dopé avec des éléments qui lui fournissent des porteurs de charge positifs (trous). Ce type de silicium est crucial dans diverses applications électroniques et photovoltaïques en raison de sa capacité à conduire l'électricité. Dans les applications à couches minces, le silicium de type P joue un rôle essentiel, en particulier dans les cellules solaires et les transistors.
Éléments dopants : le silicium de type P est généralement dopé avec des éléments du groupe III du tableau périodique, tels que le bore, l'aluminium ou le gallium. Le bore est le dopant le plus couramment utilisé.
Applications du silicium en couches minces
- Cellules solaires : Cellules solaires en silicium amorphe (a-Si) : le silicium de type P est souvent utilisé dans la fabrication de cellules solaires en silicium amorphe. Ces cellules ont une fine couche de silicium de type P qui forme la jonction avec le silicium de type N, facilitant la séparation des porteurs de charge générés par l'absorption de la lumière.
- Transistors à couches minces (TFT) : TFT en silicium amorphe : le silicium de type P peut être utilisé dans les transistors à couches minces, qui sont des composants essentiels des écrans et d'autres appareils électroniques. Ils offrent des avantages en termes de flexibilité et de fabrication à faible coût.
TFT en polysilicium basse température (LTPS) : ces transistors utilisent du polysilicium de type P pour offrir de meilleures performances en termes de mobilité plus élevée et de vitesses de commutation plus rapides par rapport aux TFT en silicium amorphe.
Dans l'ensemble, la polyvalence du silicium de type P et ses propriétés physiques et chimiques favorables en font un matériau précieux dans la production de films minces pour diverses applications technologiques avancées.
Ideal Vacuum Products fournit une large gamme de tailles de matériaux d'évaporation à un prix très compétitif et dans des délais courts. Nous prenons également des commandes de tailles de pastilles personnalisées pour répondre à vos besoins spécifiques. Veuillez contacter notre équipe commerciale pour toute demande de renseignements.
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