理想真空鉿顆粒 - Hf，100 克，純度 99.95%，鉿熔點 2227°C，1 - 6 毫米顆粒，PVD 蒸發材料，鉿薄膜
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理想真空 PVD 材料，鉿顆粒 - Hf，99.95% (3N5) 純度，鉿熔點 2227 °C，顆粒尺寸 1 - 6 毫米，100 克，熱蒸發材料，電子束沉積材料，鉿金屬薄薄膜，零件號碼：P1013584
理想真空產品股份有限公司。
我們為您的製程提供高品質的 PVD 蒸發材料。
該產品是一瓶 100 克高純度鉿顆粒 (99.95%)，尺寸為 1 x 6 毫米，採用 PET 塑膠瓶運輸。這些碎片的密度為 13.31 g/cc，熔點為 2,227 °C，3,090 °C 時的蒸氣壓為 10-4 Torr。 其熱膨脹係數為5.9 x 10-6/K，Z 比為0.36。
我們採用極具競爭力的定價策略，確保您以盡可能高的價值獲得最優質的產品，讓您在每次購買時都能負擔得起且卓越。我們為每位客戶提供折扣，大量訂購的客戶將享受更大的折扣。我們擁有大量 PVD 蒸發材料庫存，因此大多數訂單在下訂單的當天發貨。這種較短的交貨時間受到所有希望管理現金流、保持較低庫存水準並降低儲存成本的客戶的喜愛。從 Ideal Vacuum 購買意味著客戶可以快速收到他們的產品，提高滿意度，同時滿足他們緊急的庫存需求。這也使我們的客戶能夠透過快速適應新趨勢和需求來保持競爭優勢。
價格匹配保證
我們致力於為您的購買提供最大的價值。如果您發現競爭對手的相同商品價格較低，我們會積極進行價格匹配。只需向我們提供相關詳細信息，我們將確保您獲得更好的交易。
鉿
鉿由於其獨特的性能，例如高熔點、優異的耐腐蝕性以及形成穩定氧化物的能力，在薄膜應用中是一種有價值的材料。
理想真空產品股份有限公司。
該產品是一瓶 100 克高純度鉿顆粒 (99.95%)，尺寸為 1 x 6 毫米，採用 PET 塑膠瓶運輸。這些碎片的密度為 13.31 g/cc，熔點為 2,227 °C，3,090 °C 時的蒸氣壓為 10-4 Torr。 其熱膨脹係數為5.9 x 10-6/K，Z 比為0.36。
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鉿
鉿由於其獨特的性能，例如高熔點、優異的耐腐蝕性以及形成穩定氧化物的能力，在薄膜應用中是一種有價值的材料。
鉿的薄膜應用
- 電子與微電子學： 閘極電介質：氧化鉿 (HfO2) 廣泛應用於現代半導體裝置中，作為電晶體中的高 k（高介電常數）閘極電介質材料。它在先進 CMOS 技術節點中取代了二氧化矽 (SiO2)，以減少閘極洩漏並實現電子元件的進一步小型化。
- 耐磨塗層： 機械應用：鉿薄膜可用作承受極端條件的機械部件中的耐磨塗層。這些薄膜提供堅硬、耐用的表面，有助於延長這些零件的使用壽命。
- 核子應用： 控制棒塗層：鉿的中子吸收能力使其成為核反應器的首選材料，用於控制棒。鉿或其合金薄膜應用於控制棒，以提高其性能和使用壽命。
- 光學應用： 高折射率層：氧化鉿薄膜用於光學塗層，特別是抗反射塗層、鏡子和透鏡。其在可見光和近紅外線區域的高折射率和透明度使其成為這些應用的理想選擇。 雷射塗層：HfO2 用於雷射光學塗層，因為它能夠承受高雷射功率而不降低性能，確保高功率雷射系統的耐用性和性能。
電容器：HfO2 也用於電容器，其高介電常數可在更小的體積內實現更大的電容，從而提高各種電子設備的性能。
鉿獨特地結合了高介電常數、耐腐蝕性、高折射率和極端條件下的穩定性，使其成為薄膜應用中高度通用的材料。它廣泛應用於電子、光學、防護塗層、核子技術和催化領域，為這些領域的進步做出了重大貢獻。
Ideal Vacuum Products 以極具競爭力的價格和較短的交貨時間提供各種尺寸的蒸發材料。我們也接受客製化顆粒尺寸訂單，以滿足您的特定要求。如有任何疑問，請聯絡我們的銷售團隊。
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