Cibles de pulvérisation magnétron circulaires sous vide idéales, OXYDE DE TITANE - TiO
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Ideal Vacuum Products, LLC.
Ce produit est une cible de pulvérisation TiO2 magnétron circulaire (blanche), d'un diamètre de 3'' x épaisseur de 0,125". Il est pur à 99,99 % et est lié métalliquement à une plaque de support en cuivre OFHC (Oxygen-Free High Conductivity)
Nous utilisons une stratégie de prix très compétitive pour vous assurer de recevoir des produits de la plus haute qualité au meilleur prix possible, vous offrant à la fois abordabilité et excellence à chaque achat. Nous offrons d'énormes remises à chaque client, les clients qui passent des commandes en gros bénéficieront d'énormes économies. Nous stockons d'énormes quantités de nos produits pour offrir à nos clients une expédition garantie le jour même après avoir passé une commande. Ce court délai de livraison est apprécié par tous nos clients qui cherchent à gérer leur trésorerie avec des délais d'exécution plus rapides. Nos clients réguliers peuvent maintenir des niveaux de stock inférieurs, ce qui réduit les coûts de stockage et minimise le risque d'obsolescence. Acheter chez Ideal Vacuum signifie qu'un client reçoit son produit plus rapidement, ce qui améliore sa satisfaction et répond à ses besoins urgents. Cela permet également à nos clients de garder une longueur d'avance sur leurs concurrents en s'adaptant rapidement aux nouvelles tendances et demandes.
Dioxyde de titane
Le dioxyde de titane (TiO2) est un composé chimique cristallin blanc largement utilisé pour son indice de réfraction élevé et sa stabilité. Il existe sous trois formes principales : rutile, anatase et brookite. Le TiO2 est principalement utilisé comme pigment dans les peintures, les revêtements et les plastiques en raison de son excellente opacité et de sa luminosité.
Le dioxyde de titane (blanc) est utilisé dans les revêtements optiques principalement pour son indice de réfraction élevé, ce qui le rend idéal pour les revêtements antireflets, interférentiels et à haute réflectivité. Il est utilisé dans les conceptions optiques multicouches telles que les miroirs et filtres diélectriques, améliorant la réflectivité ou la transmission dans des plages de longueurs d'onde spécifiques. Sa stabilité et sa transparence dans le spectre visible à proche infrarouge le rendent également adapté aux lentilles, aux séparateurs de faisceaux et aux revêtements de protection, où un contrôle précis de la lumière et une qualité optique élevée sont nécessaires.
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Dioxyde de titane
Le dioxyde de titane (TiO2) est un composé chimique cristallin blanc largement utilisé pour son indice de réfraction élevé et sa stabilité. Il existe sous trois formes principales : rutile, anatase et brookite. Le TiO2 est principalement utilisé comme pigment dans les peintures, les revêtements et les plastiques en raison de son excellente opacité et de sa luminosité.
Le dioxyde de titane (blanc) est utilisé dans les revêtements optiques principalement pour son indice de réfraction élevé, ce qui le rend idéal pour les revêtements antireflets, interférentiels et à haute réflectivité. Il est utilisé dans les conceptions optiques multicouches telles que les miroirs et filtres diélectriques, améliorant la réflectivité ou la transmission dans des plages de longueurs d'onde spécifiques. Sa stabilité et sa transparence dans le spectre visible à proche infrarouge le rendent également adapté aux lentilles, aux séparateurs de faisceaux et aux revêtements de protection, où un contrôle précis de la lumière et une qualité optique élevée sont nécessaires.
Pulvérisation RF vs DC :
La pulvérisation RF est souvent la méthode préférée pour la pulvérisation d'oxydes métalliques purs, car ce sont des isolants et la RF possède un champ électrique alternatif qui empêche l'accumulation de charge sur la surface de la cible. Ce champ alternatif réduit l'accumulation de charge qui provoquerait autrement un arc électrique lors de la pulvérisation DC.
Vitesse de dépôt :
Vitesse de dépôt plus faible : dans la pulvérisation RF, le transfert de puissance vers le plasma est moins efficace que dans le DC, principalement en raison de la nature alternative du champ électrique. Cela se traduit par un taux de dépôt inférieur par rapport à la pulvérisation cathodique CC dans des conditions de puissance équivalentes.
Matériau cible :
Pour les cibles conductrices (comme le titane dans la pulvérisation cathodique réactive), la pulvérisation cathodique CC présente un taux de dépôt plus élevé. Pour les cibles isolantes comme les oxydes métalliques purs, la pulvérisation cathodique RF doit être utilisée et les taux de dépôt sont généralement inférieurs.
Niveaux de puissance :
L'augmentation de la puissance peut augmenter les taux de dépôt dans les pulvérisations RF et CC, mais les taux de dépôt ont toujours tendance à être plus élevés en CC pour les matériaux conducteurs.
Pression et débit de gaz :
Des taux de dépôt plus élevés peuvent être obtenus en optimisant la pression et le débit de gaz, avec différentes conditions optimales pour RF et DC.
Remarques :
Il est recommandé de coller des plaques de support métalliques ou élastomères pour tous les matériaux cibles diélectriques, car ces matériaux présentent des caractéristiques qui ne se prêtent pas à la pulvérisation cathodique, telles que la fragilité et une faible conductivité thermique. Ces cibles sont plus sensibles aux chocs thermiques en raison de leur faible conductivité thermique et peuvent donc nécessiter des procédures spécifiques de montée et de descente en puissance pendant les étapes de démarrage et d'arrêt.
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