理想真空圆形磁控溅射靶，氮化钛- TiN 溅射靶，直径 3 英寸 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.5%，金属粘合到 OFHC 铜背板上
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理想真空圆形磁控溅射靶，氮化钛- TiN 溅射靶，直径 3 英寸 x 厚度 0.125 英寸，纯度 99.5%，金属粘合到 OFHC 铜背板上
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