理想真空圓形磁控濺鍍靶材，氧化鉭 - Ta
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理想真空圓磁控濺鍍靶，氧化鉭- Ta2O5 濺射靶，3'' 直徑x 0.125" 厚，99.995% 純度，金屬鍵結OFHC 銅背板。
理想真空產品股份有限公司。
本產品為圓形磁控管氧化鉭-Ta2O5濺射靶材，直徑為3英吋x厚度為0.125英寸。
我們採用極具競爭力的定價策略，確保您以盡可能高的價值獲得最優質的產品，讓您在每次購買時都能負擔得起且卓越。我們為每位客戶提供巨額折扣，大量訂購的客戶將享受巨額折扣。我們庫存大量產品，保證客戶下單後當天出貨。 這種較短的交貨時間受到所有希望以更快的周轉時間管理現金流的客戶的喜愛。我們的老客戶可以保持較低的庫存水平，降低儲存成本並最大限度地降低過時的風險。從 Ideal Vacuum 購買意味著客戶可以更快收到產品，從而提高滿意度並滿足他們的緊急需求。這也使我們的客戶能夠快速適應新趨勢和需求，從而在競爭中保持領先。
氧化鉭- Ta2 O5
五氧化二鉭
五氧化二鉭（Ta2O5）是一種由鉭和氧組成的無機化合物。它是一種白色結晶粉末，以其高折射率、優異的化學穩定性和介電性能而聞名。 Ta2O5 由於其獨特的性能組合而廣泛應用於光學和電子應用。
五氧化二鉭 (Ta2O5) 因其優異的光學、電子和介電性能而廣泛應用於薄膜塗層。其多功能性和形成穩定、高品質薄膜的能力使其成為各種高性能應用的理想選擇：
1.高折射率塗層：Ta2O5用於透鏡、鏡子和濾光片的多層光學塗層。其高折射率有助於創建精確的抗反射和高反射塗層。 2. 抗反射塗層：與低折射率材料結合使用，生產抗反射塗層，以增強鏡頭和顯示器的透光率。 3.阻擋層：用作多層結構中防止氧化和腐蝕的保護層。
4.電光和光子裝置：.
五氧化二鉭獨特地結合了高折射率（550 nm 時約為2.1 至2.2）、介電強度和化學穩定性，使其成為光學、電子和光子學薄膜塗層中不可或缺的材料，從而促進高效能裝置的開發和系統。
沉積法：
Ta2O5 薄膜可以使用射頻濺鍍、反應濺鍍（使用鉭和氧氣）和電子束蒸發來沉積。 它還使用原子層沉積 (ALD) 進行沉積，以在微電子領域實現精確的保形塗層。
理想真空產品股份有限公司。
五氧化二鉭
五氧化二鉭（Ta2O5）是一種由鉭和氧組成的無機化合物。它是一種白色結晶粉末，以其高折射率、優異的化學穩定性和介電性能而聞名。 Ta2O5 由於其獨特的性能組合而廣泛應用於光學和電子應用。
五氧化二鉭 (Ta2O5) 因其優異的光學、電子和介電性能而廣泛應用於薄膜塗層。其多功能性和形成穩定、高品質薄膜的能力使其成為各種高性能應用的理想選擇：
1.高折射率塗層：Ta2O5用於透鏡、鏡子和濾光片的多層光學塗層。其高折射率有助於創建精確的抗反射和高反射塗層。 2. 抗反射塗層：與低折射率材料結合使用，生產抗反射塗層，以增強鏡頭和顯示器的透光率。 3.阻擋層：用作多層結構中防止氧化和腐蝕的保護層。
4.電光和光子裝置：.
五氧化二鉭獨特地結合了高折射率（550 nm 時約為2.1 至2.2）、介電強度和化學穩定性，使其成為光學、電子和光子學薄膜塗層中不可或缺的材料，從而促進高效能裝置的開發和系統。
沉積法：
Ta2O5 薄膜可以使用射頻濺鍍、反應濺鍍（使用鉭和氧氣）和電子束蒸發來沉積。 它還使用原子層沉積 (ALD) 進行沉積，以在微電子領域實現精確的保形塗層。
註解：
建議對所有介電靶材使用金屬或彈性體背板黏合，因為這些材料具有不適合濺鍍的特性，例如脆性和低導熱性。這些目標由於導熱率低而最容易受到熱衝擊的影響，因此在啟動和關閉步驟期間可能需要特定的功率上升和下降程序。
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