Ideal Vacuum Circular Magnetron Sputtering Targets, SILICON - Si (Undoped) Sputtering Target, 직경 3인치 x 두께 0.125인치, 순도 99.999%, OFHC 구리 백킹 플레이트에 금속 결합
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Ideal Vacuum Circular Magnetron Sputtering Targets, SILICON - Si (Undoped) Sputtering Target, 직경 3인치 x 두께 0.125인치, 순도 99.999%, OFHC 구리 백킹 플레이트에 금속 결합
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