理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、シリコン - Si(非ドープ)スパッタリングターゲット、直径3インチ x 厚さ0.125インチ、純度99.999パーセント、OFHC銅バッキングプレートに金属結合
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理想的な真空円形マグネトロンスパッタリングターゲット、シリコン - Si(非ドープ)スパッタリングターゲット、直径3インチ x 厚さ0.125インチ、純度99.999パーセント、OFHC銅バッキングプレートに金属結合
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